具体原理请查看原理of "磁控Sputtering "。一般情况是氩气是磁控溅射能产生辉光的工作气体，-0。那么你应该使用硅靶，然后引入氩气。此时Si被溅射出来，如果你同时通入氧气，涂层就会变成SIO2，因为Si离子和氧离子会反射产生SIO2或SiO。
4、求高手帮我详细讲解下 磁控真空溅射镀膜Lab指的含义和使用范畴,感谢Lab颜色模型由照度(L)和与颜色相关的三个元素A、b组成，L代表亮度，相当于亮度，A代表从品红色到绿色的范围，b代表从黄色到蓝色的范围。L的范围从0到100，当L50时，相当于50%黑；a和b的范围是 127到128，其中 127a是洋红色，逐渐过渡到128a时变成绿色；同理原理， 127b为黄色，128b为蓝色。
5、求 磁控溅射和多弧离子镀膜的资料和文摘1。磁控溅射镀膜技术因其显著的特点而得到了广泛的应用。但是，常规溅射靶表面的横向磁场将带电粒子紧紧束缚在一起，使得一个镀膜区域的离子密度非常低，一定程度上削弱了等离子膜的优势。通过有意识地增强或减弱其中一个磁极的磁通量。磁控溅射靶的磁场是不平衡的，可以大大提高镀区的等离子体密度，从而提高镀膜质量。此外，还讨论了该技术的发展现状。
6、溅射的溅射镀膜技术的应用1。耐磨氧化膜用于制备薄膜磁头读写时，硬盘磁头与硬盘表面有滑动摩擦。为了减少摩擦，提高磁头的寿命，目前磁头正在向薄膜化方向发展。绝缘膜和保护膜(即AL2O3和SiO2氧化膜)是薄膜磁头的主要组成部分。对薄膜磁头耐磨膜的要求是耐冲击性好、耐磨性好、可加工性合适、加工变形小。这种薄膜通常通过反应溅射来制备。
2.硬质薄膜的制备目前广泛使用的硬质薄膜是水性镀铬。电镀会造成钢的氢脆，电镀速度慢，造成环境污染。如果使用金属Cr靶，在N2气氛中进行非平衡磁控溅射镀膜，可以在工件上镀Cr、CrNX等涂层，代替水溶液镀，用于旋转轴等运动部件。3.刀具和模具超硬涂层的制备TiN、TiC等超硬涂层采用普通化学气相沉积技术制备，温度在1000℃左右，已超过高速钢的回火温度，对于硬质合金也可能使涂层晶粒长大。
{10}
7、 磁控溅射过渡层的作用1、磁控溅射利用高频磁控 tube 原理在溅射室内引入与电场方向正交的磁场。2.在这种磁场的控制下，电子被约束在靶材附近，以螺旋轨道运动，大大提高了电子对氩原子的电离效率，增加了轰击靶材的离子流密度j ,实现了快速强流溅射。3.同时可以防止电子直接加速到衬底上，降低衬底的温升。溅射有两种类型:DC和高频。按结构分，有同轴式、平面式、S枪等多种类型。
{11}
8、 磁控溅射技术的应用有哪些方面磁控溅射技术的应用主要用于蒸镀金属薄膜(如镀铝、镀铬、镀锡、不锈钢镀等。)和彩色仿金膜，从而在塑料和陶瓷表面获得光亮、美观、廉价的金属化产品。广泛应用于工艺美术、装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女鞋鞋跟等领域，JTPZ多功能镀膜技术及设备(射频等离子聚合蒸发镀膜机)是为汽车、摩托车灯具设计的，在真空室中完成铝蒸发和射频等离子镀膜保护膜。这种镀膜灯具有“三防”功能。
用户选择在灯基板上喷涂底漆、铝膜和保护膜，或者在真空室中预处理灯基板(不喷涂底漆)、铝膜和保护膜。直接涂装在ABS、PC、PBT、PE、PP、PA66等塑料基材上，无需喷涂底漆或面漆(无需投资喷涂设备)，镀铝膜后直接镀一层保护膜，滴加1%NaOH溶液10分钟不会腐蚀铝层，铝层在去离子水中浸泡96小时也不会脱落。
